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第54回講演会 東京工業大学 高田 十志和 教授

講演会名 第54回講演会 東京工業大学 高田 十志和 教授
開催日 2017年09月29日
開催場所 産総研第5事業所第2本館第3会議室(5-2-6602室)
参加人数 30名
概要

実用化を目指す分子修飾剤:安定ニトリルオキシドとロタキサン架橋剤

東京工業大学 物質理工学院 応用化学系 高田 十志和 教授

ロタキサンは分子スイッチや分子触媒として有用であるが、一方で高分子の架橋点にロタキサン構造を導入すると少量でも飛躍的にタフな高分子を与えるため特に注目されている。ロタキサン構造を高分子の架橋点に導入できる分子修飾剤を開発し、架橋高分子の合成、高性能微粒子の合成、高分子へのロタキサン架橋構造の直接導入など、実用化を目指した研究を進めている。

無触媒・無溶媒条件下で不飽和結合含有分子とクリック反応できる安定ニトリルオキシド反応剤は、分子中に多様な官能基を導入することができるため、有用な分子修飾剤として表面修飾、超分子合成、高分子修飾、高分子架橋などの実用化を目指した活用研究が多方面で進んでいる。

講演では、この2つの新しい分子修飾剤の基礎と応用について紹介して頂いた。特にロタキサンの軸分子と環状分子のそれぞれにニトリルオキシドを導入したクリック反応でロタキサン構造を導入できる架橋剤を開発し、現在トポロジカル型架橋剤という新しい分野を切り開いている。

また、企業との連携で省エネタイヤ用シランカップリング剤を開発した際の話や、ロタキサンがなぜかガンに効果があるといった研究成果まで、非常に多岐にわたる講演をして頂いた。

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