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公開特許情報

( 2008/02/28~ 2017/12/12 )
出願番号 出願日 発明の名称 公報番号 発明者(最新)
PCT/JP2017/0438892017/12/06有機金属錯体触媒WO2018/105671崔 準哲、深谷 訓久、小野澤 俊也、佐藤 一彦、安田 弘之、水崎智照、高木由紀夫
PCT/JP2017/0369352017/10/12シクロメタル化イリジウム錯体の製造方法、及び、有機イリジウム材料からなるシクロメタル化イリジウム錯体の前駆体WO2018/079275A1今野英雄、谷内 淳一、小林 瑠美、政広 泰
TW1061434862017/12/12シクロメタル化イリジウム錯体の製造方法TW201827449今野 英雄、谷内淳一、小林留美、政本泰
PCT/JP2017/0434552017/12/04シクロメタル化イリジウム錯体の製造方法WO2018/116796A1今野 英雄、谷内淳一、小林留美、政本泰
特願2016-2463892016/12/20ボラン還元を用いたヒドロシランの製造方法特開2018-100231大森 悠、松本 和弘、中島 裕美子、佐藤 一彦、島田 茂
特願2016-2433872016/12/15ヒドロシランを利用した含窒素含ケイ素有機化合物の製造方法特開2018-095613大洞 康嗣、林 賢今、島田 茂、佐藤 一彦
特願2016-2414932016/12/13鉄錯体触媒を用いたヒドロシランの脱水素縮合反応によるポリシランの製造方法特開2018-095731中沢 浩、早坂 和将、西村 峻也、島田 茂、佐藤 一彦
PCT/JP2017/0438902017/12/06有機金属錯体触媒WO2018/105672崔 準哲、深谷 訓久、小野澤 俊也、佐藤 一彦、安田 弘之、水崎智照、高木由紀夫
特願2016-2329982016/11/30反応性置換基を有するシルセスキオキサンの製造方法特開2018-090502海野 雅史、江川 泰暢、佐藤 一彦、島田 茂
特願2016-2198692016/11/10ビスホスフィンオキシド化合物、ビスチオホスフィン化合物、またはビスホスフィン化合物の製造方法特開2018-076264吉村 彩、郭 海卿、谷田部 哲夫、韓 立彪

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