お知らせ
シロキサン結合のワンポット合成技術を開発
国立研究開発法人 産業技術総合研究所触媒化学融合研究センターケイ素化学チーム 松本 和弘 研究員、佐藤 靖 研究員、島田 茂 研究チーム長、同センター 佐藤 一彦 研究センター長らは、国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構のプロジェクトで、シリコーンなどの有機ケイ素材料の主骨格を形成しているシロキサン結合をワンポットで選択的に形成する技術を開発した。なお、今回開発した技術の改良により、10個程度の連続するシロキサン結合を精密に形成することもできる。さらなる改良により、シリコーンの架橋構造や反応性官能基を導入する箇所を分子レベルで精密に制御することで、疎密の生じない均一な有機ケイ素材料を創出できる可能性がある。
詳細に関しては、下記のリンクよりご覧いただけます。
プレスリリース：http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2017/pr20170202/pr20170202.html
